光刻胶定义和主要成分
　　光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】光刻胶目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作，约占IC制造材料总成本的4%，是重要的半导体材料。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）
　　光刻胶由感光树脂（聚合剂）、增感剂（光引发剂）、溶剂与助剂构成。光引发剂是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。感光树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。溶剂是光刻胶中最大成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎没影响。助剂通常是专有化合物，主要用来改变光刻胶特定化学性质。
　　风险提示
　　中美局势紧张，国际形势面临不确定的风险。
　　国产替代不及预期的风险。
　　半导体行业景气不及预期风险。